供应PECVD800等离子增强化学气相沉积 

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北京泰科诺科技有限公司
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最新供应 | 公司介绍
联系人：彭宇宙 先生 加为商友
经营模式：生产型
信用指数： 无
企业身份认证： 未经过第三方认证
供应PECVD800等离子增强化学气相沉积
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产品名称：等离子增强化学气相沉积
当 前 价：面议
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发货期限：10天内发货
所 在 地：中国 北京 海淀区
受关注度：
有效期至：2009年05月27日
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  • 详细说明
  • 留言信息
    • 品牌：泰科诺

    基本参数
  • 产地：北京
    • 主要特点: 该设备为射频电容耦合式等离子化学气相沉积镀膜设备。主要应用于科学研究及生产线 前期工艺试验。例如：在真空条件下，利用硅烷类气体、氮气和氧化亚氮，通过射频电 场而产生辉光放电形成离子体，以增强化学反应。从而降低了沉积温度，可以在室温至 350℃条件下沉积氮化硅膜、氧化硅膜、氮氧化硅膜。还可以沉积各种氧化物膜、氮化物 及类金刚石（≥350℃）膜等。 最适合于: 主要应用于科学研究及生产线前期工艺试验。 可以在室温至350℃条件下沉积氮化硅膜、氧化硅膜、氮氧化硅膜还可以沉积各种氧化物 膜、氮化物及类金刚石（≥350℃）膜等。 主要配置及技术参数: 1) 不锈钢沉积室：Φ120×H200mm 2) 平行板电极：Φ100mm×2 3) 加热温度：室温至400℃可控 4) 反应气体侧面进入、侧面抽气 5) 质量流量控制器三路（三路备用） 6) 本底真空: 10-1 Pa 7) 反应气体分压强：几Pa至几千Pa可调
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    彭宇宙 先生（销售经理）
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