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供应镀铬走位剂

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    江苏省 无锡市

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基本参数
  • 品牌

    星光

  • 型号

    XG-501

详细说明

一.特点
1. 沉积速度快,阴极电流效率高,可在较高电流密度下操作。
2.  操作浓度较低,光亮范围较宽,具优良之覆盖能力及分散能力,且杂质容忍度高。
3.  XG-501添加剂采用可溶性复合催化剂,对工件有良好的活化作用,单一开缸及补充,使用极为方便。
二.溶液组成及操作条件
参     数
范               围
铬酐
150-260g/l
硫酸
0.75-1.3g/l(铬酐:硫酸=200:1)
三价铬
0.5-3g/l
XG-501添加剂
5-10ml/l(固体产品先1:5溶解)
温度
35-52
比重
19-23Be
电流密度
15-50A/dm2
阳极
Pb-Sn合金阳极
三.配槽
1.  注入开缸量之60-70%的去离子水,加热至40℃。
2.  在强力搅拌下慢慢加入铬酐,搅拌使其充分溶解,加水至标准液位。
3.  分析调节硫酸至标准含量,控制铬酐/硫酸比至200:1.
4.  加入计量的XG-501高速装饰镀铬添加剂。
5.  挂好阳极,以大面积阴极用6V电压于操作温度下电解3-5小时试镀。
四.生产维护
XG-501添加剂在镀液中起到抑制酸雾及提高镀液分散能力的作用,每使用100Kg铬酐需添加XG-501添加剂约5升。
五.各组份之功用
铬酐:为主要成分,含量高则导电率会提高,但阴极电流下降,不足则高电流区易烧焦。
三价铬:配之镀液经电解后有三价铬产生,进行电解时阴极上产生三价铬,而阳极则将其氧化成六价铬,以达至平衡,三价铬含量一般为0.5-3g/L。三价铬过低时,沉积速度慢,镀层较软,镀液均镀能力差,可通过大阴极面积电解以提高其含量,三价铬过高则镀层光亮范围缩小,导电率下降,可用小阴极面积电解以降低其含量。
硫酸:镀铬液中必须有一定量的硫酸才可使六价铬还原成金属铬,其含量不在于其绝对值的多少,而在于合适之铬酐/硫酸比。XG-501工艺与一般传统工艺不同,其控制铬酐/硫酸比在200:1为宜。.过高比例则会降低沉积速度和光泽度,镀层边会出现黑色条纹及棕色铬渣。过低比例虽能提高镀层光泽度,但却使阴极电流效率和深镀能力降低。硫酸过高可加碳酸钡沉淀以除去,一般为2g碳酸钡可沉淀1g硫酸。
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