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Ulvac-PHI X-tool 触碰式全自动XPS分析装置

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基本参数
  • 分辨率

    750um

  • 检测误差

    0.1%

  • 电压

    220V

  • 材质

    金属,纳米

  • 类型

    光电子能谱仪

  • 适用范围

    纳米薄膜材料,微电子材料,催化剂,摩擦化学,高分子材料的表面和界面研究,包括为存储介质、生物材料

  • 结构型式

    台式

  • 品牌

    Ulvac-PHI

  • 型号

    X-tool

  • 加工定制

  • 质量执行标准

    日规

详细说明


ULVAC-PHI为全球超高真空表面分析仪器供应商的**,ULVAC-PHI创新的X射线光电子能谱技术(xps)、俄歇电子能谱技术(AES)、二次离子质谱技术等为客户在材料分析方面提供全面且**的解决方案。所提供的仪器:X射线光电子能谱仪、俄歇电子能谱仪、动态二次离子质谱仪和飞行时间二次离子质谱仪,可解决客户端广泛的表面分析问题。主要应用在纳米技术、微机电、存储介质、生化材料、药物化学、家属、高分子、有机电子等领域。
X射线光电子能谱分析(XPS)是用X射线照射固体表面,测定表面深约10nm激发的光电子能谱图,来获取表面组成及化学结合状态的分析方法。
PHI X-tool产品特点:
·卓越的操作性并支持多国语言的分析软件:
PHI X-tool软件支持简单直观的触摸屏操作,及全部的XPS测定操作;
用户可从手动操作到自动操作(自动定性、定量、分析及完成报告);
操作性强,无论是否有经验,均可完成测定
另,采用平板电脑,实现了智能的操作环境
·自动测试及自动报告:
具备分析点的Auto-Z自动对中功能(高速自动的高度调整),绝缘样品的全自动中和功能
实现测定位置的设定,未知样品的测定及分析
·PHI独有的**进的硬件配置
独有的扫描微聚焦X射线源**),分析面积在20μm~1.4mm
采用低能电子和Ar离子同时作用绝缘体表面,实现自动电荷中和**)
高性能的浮动Ar离子枪实现了高速度低损伤的深度分析


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